Загрузка…
00933813
19399375
Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.
United States
Journal
Q2
0.395
Ключевое направление — изучение физики плазмы и её приложений в различных областях науки и техники. Журнал акцентирует внимание на исследованиях, посвящённых динамике и поведению плазмы, а также разработке новых технологий, использующих плазменные процессы. В нём рассматриваются как экспериментальные, так и теоретические работы, включая численные моделирования и анализ плазменных систем. Авторы исследуют такие поднаправления, как плазменная обработка материалов и астрофизика плазмы, а также новейшие методы генерации и контроля плазмы. Публикации будут интересны физикам, инженерам и специалистам, занимающимся плазменными технологиями и их применением в промышленности и науке.
Подача рукописей в журналы Scopus и WoS временно недоступна из-за санкционных ограничений. Мы оказываем полную поддержку по публикации в журналах ВАК.
Зарегистрируйтесь на платформе АСНАП — получите требования журнала, шаблон оформления и рекомендации по подготовке рукописи
Вы представляете редакцию этого журнала? Исправьте данные →
Данные о журнале предоставлены АСНАП — Академической Системой Научной Активности и Публикаций